在半导体所用的真空系统中，在清洁条件下的抽气，只抽少量空气或少许的水蒸气，在传统的工艺中，都以“微米”做单位，微米(μm)是纳米(nm)的1000倍。我们常以工艺线宽来代表更先进的半导体技术，如0.25微米、0.18微米、0.13微米，0.13微米以下的更先进工艺则进入了纳米领域。而现在的45nm和32nm的技术节点已成为近两年人们谈论的焦点。这对制备工艺的真空条件清洁度要求更高。

半导体的大量投入，需要真空泵的企业越来越多，精度越来越高，主要现在需求干式真空泵为最多，但国内的干式真空泵生产厂家还不多，这位我们威特真空泵的发展添加了动力，我们从最初的多级罗茨真空泵、多级爪式真空泵、螺杆式真空泵、涡旋式真空泵、往复真空泵以及涡轮式无油真空泵，到现在的干式真空泵。

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